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Seminar - Gewerblicher Rechtsschutz (Patent und Gebrauchsmuster)
Aufbaukurs:
Gewerblicher Rechtsschutz II
Patent und Gebrauchsmuster
2019-07-18 2019-07-18 Courtyard by Marriott Düsseldorf Hafen Speditionstr. 11 40221 Düsseldorf reservations@cy-duesseldorfhafen.com +49 211 4939-0 +49 211 4939-2000

Gewerblicher Rechtsschutz II - Patent und Gebrauchsmuster

Aufbaukurs: Patent und Gebrauchsmuster

Intensives Aufbauseminar im Gewerblichen Rechtschutz für Formalsachbearbeiter.
  • Anmeldung I Prüfung I Erteilung I Mängelbeseitigung
  • Europäisches Patent und PCT-Verfahren - nationale/regionale Phase
  • Rechtsbehelfe und Prozesswege: Einspruch I Beschwerde I Nichtigkeit

Dieses Aufbauseminar gibt einen vertiefenden Überblick über die einzelnen Schutzrechte auf allen drei Ebenen. Das Niveau Ihres Fachwissens wird gesteigert und vorangetrieben. Lernen Sie die Besonderheiten der verschiedenen Schutzrechtsarten kennen. Dies wirkt positiv auf Ihre tägliche Praxis. Nach dem Besuch des Seminars sind Sie in der Lage, die unterschiedlichen Mechanismen der Anmeldeverfahren zu beschreiben, mit den Gesetzen und Verordnungen zu arbeiten, mit den Rechtsmitteln und Rechtsbehelfen umzugehen, Teilschritte und den Stand der Rechtsschutzanmeldung einzuschätzen, Mängel im Anmeldeverfahren zu beheben und Ihren Vorgesetzten und Ihr Team somit fachkundig zu unterstützen.

Nutzen Sie die beiden Tage für eine kompakte und vertiefende Schulung über die gesamten gewerblichen Schutzrechte von der Anmeldung bis hin zur Eintragung.
  • PAFAs und REFAs
  • Formalsachbearbeiter
  • Patent- und Markensachbearbeiter
  • Bürokräfte, Assistenz
  • Quereinsteiger mit Vorkenntnissen
  • Patentanwaltskandidaten und -referenten

und alle interessierten Mitarbeiter aus patent- und markenrechtlichen Abteilungen aus Kanzleien und Unternehmen.