2024-03-19 2024-03-19 , online online, 1.320,- € zzgl. MwSt. Dr. Hubertus Schacht https://www.forum-institut.de/seminar/24031100-deutsche-und-chinesische-gebrauchsmuster/referenten/24/24_03/24031100-seminar-deutsche-und-chinesische-gebrauchsmuster_schacht-hubertus.jpg Deutsche und chinesische Gebrauchsmuster

Dieses Online-Seminar vermittelt Ihnen, wie Sie das deutsche und chinesische Gebrauchsmustersystem als strategische Waffe einsetzen bzw. sich auf Beklagtenseite effektiv gegen solche Angriffe schützen können.

Die Inhalte Ihres Online-Seminars
  • Gebrauchsmusterverletzungsverfahren: der effizientere Patentverletzungsprozess?
  • Patent- und Gebrauchsmusterverletzungsprozess: wie kann man das Zusammenspiel optimal nutzen?
  • Gebrauchsmuster und einstweilige Verfügung
  • Abzweigung aus PCT/EP-Anmeldungen: welche Optionen bietet der (neue) Offenbarungsbegriff des BGH?
  • Löschungsverfahren: Überraschungen vermeiden


Wer sollte teilnehmen?
Sie sind als Mitarbeiter:in einer Rechts-, IP-, Patent- oder F&E-Abteilung zuständig bei Verletzungen technischer Schutzrechte und möchten Ihr Arsenal um eine weitere IP-Waffe ergänzen? Oder beraten Sie als Rechtsanwalt/-anwältin bzw. Patentanwalt/-anwältin auf diesem Feld?
Dann ist dies das richtige Online-Seminar für Sie! Vorkenntnisse im gewerblichen Rechtsschutz werden vorausgesetzt.
Die Ziele Ihres Online-Seminars
Dieses Online-Seminar vermittelt Ihnen, wie Sie das deutsche und chinesische Gebrauchsmustersystem strategisch maximal effizient einsetzen können. Das notwendige Wissen wird anhand einer Vielzahl von Case Studies vermittelt, die alle tatsächlichen Fällen aus der Praxis nachgebildet sind. Zugleich erhalten Sie einen aktuellen Überblick über die zentralen Entwicklungen der Rechtsprechung zu Offenbarung, Schutzfähigkeit und Schutzbereich. Durch die Bezugnahme auf das chinesische Gebrauchsmustersystem wird eine globale Perspektive vermittelt, da das Gebrauchsmusterrecht in Deutschland und China die im internationalen Vergleich mit Abstand größte Rolle spielt.
Ihr Nutzen

  • Sie wissen, worauf es in der Praxis beim Gebrauchsmusterverletzungsverfahren ankommt.
  • Sie kennen die Besonderheiten der Gerichtsstandorte Düsseldorf, Hamburg, Mannheim und München bei einstweiligeen Verfügungen bezüglich von Gebrauchsmustern.
  • Sie können chinesische Gebrauchsmuster für eigene Zwecke nutzen.

Seminar - Deutsche und chinesische Gebrauchsmuster

Deutsche und chinesische Gebrauchsmuster

Die gefährlichsten IP-Waffen in Angriff und Verteidigung

Ihre Vorteile/Nutzen
  • Wissenstransfer auf höchstem Niveau
  • Exzellente Referenten
  • I§ 15 FAO Zertifikat über 6,0 Stunden

Webcode 24031100

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Alles auf einen Blick

Termin

19.03.2024

19.03.2024

Zeitraum

Seminar: von 09:00 bis 17:00 Uhr

Seminar: von 09:00 bis 17:00 Uhr
Veranstaltungsort

online

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Gebühr
Ihre Kontaktperson

Jean-Claude Alexandre Ho, LL.M.
Konferenzmanager Gewerblicher Rechtsschutz

+49 6221 500-675
jc.alexandreho@forum-institut.de

Details

Dieses Online-Seminar vermittelt Ihnen, wie Sie das deutsche und chinesische Gebrauchsmustersystem als strategische Waffe einsetzen bzw. sich auf Beklagtenseite effektiv gegen solche Angriffe schützen können.

Die Inhalte Ihres Online-Seminars

  • Gebrauchsmusterverletzungsverfahren: der effizientere Patentverletzungsprozess?
  • Patent- und Gebrauchsmusterverletzungsprozess: wie kann man das Zusammenspiel optimal nutzen?
  • Gebrauchsmuster und einstweilige Verfügung
  • Abzweigung aus PCT/EP-Anmeldungen: welche Optionen bietet der (neue) Offenbarungsbegriff des BGH?
  • Löschungsverfahren: Überraschungen vermeiden


Wer sollte teilnehmen?
Sie sind als Mitarbeiter:in einer Rechts-, IP-, Patent- oder F&E-Abteilung zuständig bei Verletzungen technischer Schutzrechte und möchten Ihr Arsenal um eine weitere IP-Waffe ergänzen? Oder beraten Sie als Rechtsanwalt/-anwältin bzw. Patentanwalt/-anwältin auf diesem Feld?
Dann ist dies das richtige Online-Seminar für Sie! Vorkenntnisse im gewerblichen Rechtsschutz werden vorausgesetzt.

Die Ziele Ihres Online-Seminars

Dieses Online-Seminar vermittelt Ihnen, wie Sie das deutsche und chinesische Gebrauchsmustersystem strategisch maximal effizient einsetzen können. Das notwendige Wissen wird anhand einer Vielzahl von Case Studies vermittelt, die alle tatsächlichen Fällen aus der Praxis nachgebildet sind. Zugleich erhalten Sie einen aktuellen Überblick über die zentralen Entwicklungen der Rechtsprechung zu Offenbarung, Schutzfähigkeit und Schutzbereich. Durch die Bezugnahme auf das chinesische Gebrauchsmustersystem wird eine globale Perspektive vermittelt, da das Gebrauchsmusterrecht in Deutschland und China die im internationalen Vergleich mit Abstand größte Rolle spielt.

Ihr Nutzen

  • Sie wissen, worauf es in der Praxis beim Gebrauchsmusterverletzungsverfahren ankommt.
  • Sie kennen die Besonderheiten der Gerichtsstandorte Düsseldorf, Hamburg, Mannheim und München bei einstweiligeen Verfügungen bezüglich von Gebrauchsmustern.
  • Sie können chinesische Gebrauchsmuster für eigene Zwecke nutzen.

Programm

Seminar: von 09:00 bis 17:00 Uhr

Dr. Hubertus Schacht, Dr. Tobias Wuttke

Das Zusammenspiel von Patent- und Gebrauchsmuster- verletzungsprozess: Welche strategischen Möglichkeiten ergeben sich hier?
  • Jedes Schutzrecht ein eigener Streitgegenstand
  • Konzentrationsmaxime gem. § 145 PatG nicht anwendbar
  • Sukzessive und parallele Angriffe

Dr. Hubertus Schacht

Das Gebrauchsmusterverletzungs-verfahren: Der effizientere Patentverletzungsprozess?
  • Übersicht über das Gebrauchsmusterverletzungsverfahren
  • Wie weit reicht der Schutzbereich?
  • Welche Rolle spielt der Einwand fehlender Schutzfähigkeit?

Dr. Hubertus Schacht, Dr. Tobias Wuttke

Gebrauchsmuster und einstweilige Verfügung: Düsseldorf, Hamburg, Mannheim, München? Die Besonderheiten der Standorte

Dr. Tobias Wuttke

Die Abzweigung aus PCT/EP-Anmeldungen: Welche Optionen bietet der (neue) Offenbarungsbegriff des BGH?
  • Was bedeutet "unmittelbar und eindeutig" vor dem EPA und dem BGH?
  • Mehrfache/wiederholte Abzweigungen - gibt es eine Grenze?

Dr. Tobias Wuttke

Das Gebrauchsmusterlöschungsverfahren - Überraschungen vermeiden
  • Voraussetzungen des erfolgreichen Löschungsantrags
  • Löschungsantrag und parallele Amtsrecherche nach § 7 GebrMG?

Dr. Oliver Pfaffenzeller

Gebrauchsmuster in China: Worauf man sich einstellen muss und wie man dieses Instrument für eigene Zwecke nutzen kann
  • Das chinesische Gebrauchsmuster als Waffe
    • Entwicklungen und Trends bei den chinesischen Gebrauchsmuste
    • Deutsche und chinesische Gebrauchsmuster im Vergleich
    • Erfinderischer Schritt bei chinesischen Gebrauchsmustern
    • Rechtsbeständigkeit und zivilrechtliche Durchsetzung chinesischer Gebrauchsmuster
  • Defensivstrategie: Notarisierung von Beweismitteln in China
    • Rechtliche Wirkung der Notarisierung
    • Nutzen der Notarisierung
  • Anmeldestrategien für Erfindungen außerhalb Chinas
    • (Nach-)Anmeldung eines chinesischen Gebrauchsmuster
    • Gleichzeitige Anmeldungen von Gebrauchsmuster und Patent in China

Tipps & Hinweise

Zeitplan


Bitte ab 08:45 Uhr über den Link im Kundenportal die Übertragung aktivieren
Beginn: 09:00Uhr
Ende: 17:00 Uhr
dazwischen Pausen:
- 10:15 bis 10:30 Uhr
- 11:45 bis 12:30 Uhr
- 14:15 bis 14:30 Uhr
und
15:45 bis 16:00 Uhr

Ihr Zertifikat über 6 Zeitstunden

Bei diesem Online-Seminar erhalten Sie eine Bescheinigung nach § 15 FAO über 6 Stunden. Bei der Teilnahme online ist Voraussetzung, dass Ihre Webcam eingeschaltet bleibt, damit wir im Rahmen unserer durchgehenden Betreuung der Veranstaltung Ihre Teilnahme überprüfen können.

Das zeichnet unsere Veranstaltungen aus

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